众所周知，芯片的原料是沙子，但是从沙子到芯片，中间有N道工序，需要N种设备和spire技术。在这些设备中，最重要的是光刻机和蚀刻机。根据机构的数据，在所有用于芯
众所周知，芯片的原料是沙子，但是从沙子到芯片，中间有N道工序，需要N种设备和spire技术。
在这些设备中，最重要的是光刻机和蚀刻机。根据机构的数据，在所有用于芯片制造的设备中，光刻机的成本约占24%，而蚀刻机的成本约占20%，这两种设备合计占44%。
然后是薄膜沉积设备、测试设备和封装设备，分别占20%、9%和6%。但是，薄膜沉积设备不是只有一种，而是一种机器，有很多种，不同于光刻机和蚀刻机。
那么问题来了。既然这两种设备如此关键，那么国内光刻机和蚀刻机的技术如何，与国际先进水平相比差距有多大？
先说光刻机，这是大家最关心的。目前世界上最顶级的光刻机自然是ASML的0.55孔径的EUV光刻机。价格在22亿左右，可以生产2nm以下甚至艾米(0.1nm)级别的芯片。
然后是ASML的EUV光刻机，0.33口径，十亿元，可以生产5nm，4nm，3nm级别的芯片。
但是，EUV光刻机只有ASML能生产，连尼康和佳能都不能生产。目前国内厂商上海微电子可以生产，不为大众所知(不太清楚)，只能用90nm工艺，距离ASML至少还有10年。
再来说说蚀刻机。这件国产的很厉害。国内有一家厂商叫中微半导体。该公司生产的蚀刻机精度达到3纳米，被TSMC采用。
微半导体的蚀刻机和国际顶级的应用材料、泛林相比，是一个级别的，这一块并不落后。
另外薄膜沉积设备也是北方的华创生产的，但是精度在14nm左右，国产化率10%到15%。
可以看到，半导体设备的关键产品，除了光刻机，都不是特别落后。只要国产光刻机能有所突破，纯国产芯片的技术就能快速突破。
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